清洗設備的基本組成是輸送系統、處理罐、純水罐、干燥臺。輸送系統是將物體運入、運出，并對處理槽內的物體進行清洗的裝置。純水槽是沖走附著在物體上的化學溶液的水槽，干燥臺是干燥物體的裝置。

一般來說，一種處理液只能清洗一種污漬，如果要清洗多種污漬，則需要多個處理池和純水箱。半導體制造工藝使用批量式設備，即一次處理多個晶圓，以及單晶圓設備，即一張接一張地處理晶圓。

在批量方法中，晶圓被放置在稱為載體的容器中，每個載體被放置在處理層中進行清洗。此外，單晶片方法在逐個旋轉每個晶片的同時進行噴射清洗。