步進曝光機是一種使用步進重復(fù)方法進行曝光的投影曝光設(shè)備。將曝光區(qū)域分成幾個小部分并一次性曝光這些區(qū)域。曝光完成后，移動到下一個區(qū)域并進行另一次曝光。這稱為步進重復(fù)方法，因為該區(qū)域被移動（步進）并重復(fù)曝光（重復(fù)）。

UV照射設(shè)備一般采用超高壓汞燈作為光源。當(dāng)在晶片或玻璃基板上形成電路時，通過用紫外線照射圖案化的光掩模，將圖案轉(zhuǎn)移到涂有抗蝕劑的基材上。
曝光所需的光線要求均勻度高、角度控制精確、輸出高。為了滿足這個要求，我們使用短弧燈，它是幾千瓦到幾十千瓦的光源，并通過許多光學(xué)元件將橢圓鏡聚焦的強紫外光照射到光掩模上。